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| 产地 | 湖北 |
| 货号 | 无 |
| 品牌 | 鑫伟烨 |
| 用途 | 光电材料中间体 |
| 包装规格 | 根据客户需求 |
| CAS编号 | |
| 纯度 | 98% |
| 别名 | 3A-甲基-6A-正丙基-1,3,4,6-四甲氧甲基甘脲;1,3,4,6-四(甲氧基甲基)-3a-甲基-6a-丙基四氢咪唑并[4,5-d]咪唑-2,5(1H,3H)-二酮;1,3,4,6-四(甲氧基甲基)-3a-甲基-6a-Chemicalbook正丙基四氢咪唑[4,5-并]咪唑-2,5(1H,3H)-二酮;3α-甲基-6α-正丙基-1,3,4,6-四甲氧甲基甘脲;1,3,4,6-四甲氧甲基-3a-甲基-6a-丙基四氢咪唑并[4,5-d]咪唑-2,5(1H,3H)-二酮 |
| 级别 | 工业级 |
化学身份：分子式 C₁₆H₃₀N₄O₆，分子量 374.43 。
物理形态：供应商信息存在矛盾。多数描述为白色粉末或类白色粉末，熔点 87–89 °C ；但也有个别供应商标注为“无色液体” 。实际形态可能因纯度或批次而异，采购时需以具体批次质检单为准。
结构特征：其核心是一个刚性的咪唑并咪唑双环骨架，氮原子上连有四个甲氧基甲基（MOM）。在有机合成视角下，MOM 是氮原子的保护基，可用于多步反应中暂时“封住”氮位点，避免副反应 。
光刻胶交联剂（核心应用）：这是该化合物最主要的商业定位。它作为交联剂，与含羟基的碱性可溶树脂（如酚醛树脂）及光致酸产生剂配合，用于化学放大型负性光刻胶体系。其作用是提升光刻胶的分辨率、耐刻蚀性和热稳定性，服务于半导体芯片制造与微机电系统加工 。
